全自动Luminex

ERS的全自动 Luminex 设备为量产效率、灵活性和产出设定了新的标准,引领了半导体解键合的未来。这些最先进的机器以精确和创新为设计理念,使半导体制造商实现无与伦比的生产率的同时,获得较高的性能水平。

产品描述

ERS 全自动 Luminex 机器 :LUM300A1 和 LUM300A2 为半导体解键合领域的创新和效率设定了新标准。这两款机器拥有最先进的功能,旨在满足大批量生产的严格要求,同时确保卓越的性能和可靠性。

凭借强大的处理能力,这些设备可以轻松地处理薄至100 微米的晶圆,并在整个解键合过程中保证晶圆的完整性和精确性。通过SECS-II/GEM 的通信方式,这些设备可无缝集成到生产线中,并可升级到 GEM300,以增强自动化和控制能力。这确保了与现代半导体制造标准的兼容性,并促进了高效的数据交换和过程监控。

用户友好的交互式界面简化了操作,使用户能够有效地管理和监控解键合过程。该系统具有量产能力,每小时可处理多达 50 张晶圆,极大地提高了生产率和运行效率,是量产中不可或缺的设备。

得益于 ERS 的光子解键合技术,这些自动设备可与多种键合材料兼容。这种适应性满足了外包半导体组装和测试(OSAT)设备中的多种要求,确保机器在不影响性能或质量的情况下满足不同的生产需求。

技术参数

输入

Wafer Size
300 mm
Wafer/Panel Thickness
100µm to 900µm*
Carrier Type
Glass with Light Absorbing Layer (LAL)
Carrier Thickness
<2mm

关键元件 (LUM300A1 and LUM300A2)

Loadports/Input Station
2x FOUP loader for LUM300A1 and 3x FOUP loader for LUM300A2 , E84 Compliant
RF ID Reader (Option)
Wafer Handler
1x
Flip Function
1x
Pre-alignment and Notch Detection
x, y, z and θ alignment
Pre-aligner Accuracy
Centering <0.2mm
Glass Carrier ID Reader
OCR, Barcode, 2D Matrix
Host Communication
SECS-II/GEM, GEM300
Throughput
LUM300A1: 55 Wafers per Hour
LUM300A2: 45** Wafers per Hour

解键合模块 (LUM300A1 and LUM300A2)

Debond Method
PhotoThermal via Flash Lamp
Wavelength
200 - 1100 nm
Laser Transmittance
0%
Stage Motion Accuracy | Thermal Control
~0.2mm position accuracy
Active Cooling on Chuck
Force Sensor
1x Debond Force Monitoring

晶圆清洗模块 (only LUM300A2)

Wafer Spinner Chamber
4x Multiple Nozzle and Pattern Options
Rotation Speed (RPM)
20 – 8000, ±1 rpm

机器尺寸

W x D x H
LUM300A1: 2500 x 1800 x 2200 mm
LUM300A2: 3200 x 1800 x 2200 mm
Lamp control unit: 1200 x 900 x 1800 mm
Weight
LUM300A1: 1200 kg
LUM300A2: 1500 kg
700 kg (Lamp control unit)

厂务要求

Voltage
400 VAC 3-phase 32A
Frequency
50 Hz
Vacuum Pressure
100 mbar
Vacuum Flow Rate
100 l/min

* Thickness not included in the range needs further evaluation
** Depending on cleaning recipe
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